《固體電子學(xué)研究與進展》經(jīng)新聞出版總署批準(zhǔn),自1981年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為32-1110/TN,本刊積極探索、勇于創(chuàng)新,欄目設(shè)置及內(nèi)容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《固體電子學(xué)研究與進展》辦刊宗旨是面向21世紀(jì)固體物理和微電子學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新性學(xué)術(shù)研究。
雜志簡介:《固體電子學(xué)研究與進展》雜志經(jīng)新聞出版總署批準(zhǔn),自1981年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為32-1110/TN,是一本綜合性較強的電子期刊。該刊是一份雙月刊,致力于發(fā)表電子領(lǐng)域的高質(zhì)量原創(chuàng)研究成果、綜述及快報。主要欄目:三維集成射頻微系統(tǒng)(專欄)、器件物理與器件模擬、射頻微波與太赫茲、光電子學(xué)、硅微電子學(xué)、材料與工藝、研究簡訊
《固體電子學(xué)研究與進展》經(jīng)新聞出版總署批準(zhǔn),自1981年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為32-1110/TN,本刊積極探索、勇于創(chuàng)新,欄目設(shè)置及內(nèi)容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《固體電子學(xué)研究與進展》辦刊宗旨是面向21世紀(jì)固體物理和微電子學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新性學(xué)術(shù)研究。
《固體電子學(xué)研究與進展》雜志學(xué)者發(fā)表主要的研究主題主要有以下內(nèi)容:
(一)高電子遷移率晶體管;氮化鎵;GAN;砷化鎵;GAAS
(二)GAAS;MMIC;砷化鎵;單片;微波單片集成電路
(三)MMIC;砷化鎵;PHEMT;功率放大器;GAAS
(四)HFET;GAN;電流崩塌;勢壘;溝道
(五)CMOS;低功耗;跨導(dǎo);電路;鎖相環(huán)
(六)氮化鎵;GAN;MOCVD;二維電子氣;高電子遷移率晶體管
(七)砷化鎵;GAAS;單片;開關(guān);MESFET
(八)半導(dǎo)體器件;硅;雙極晶體管;集成電路;CMOS
(九)金剛石;襯底;二維電子氣;氮化鎵晶體管;鍵合
(十)微波單片集成電路;MMIC;功率MMIC;氮化鎵;功率放大器
1、論文摘要字數(shù)請控制在400字以內(nèi),內(nèi)容要明確體現(xiàn)核心觀點、創(chuàng)新之處及研究方法。
2、作者單位用腳注方式(阿拉伯?dāng)?shù)字)書寫在正文第1頁最下方,寫明所有作者的工作單位、城市(或縣)和郵政編碼。第一作者必須在文末提交個人簡介。書寫格式依次為:姓名(出生年~)、性別、民族、學(xué)歷、職稱、研究方向等。
3、文章各章節(jié)或內(nèi)容層次的序號,一般依一、(一)、1、(1)等順序表示。
4、論文標(biāo)題的層級,按一、(一)、1、(1)……排列,標(biāo)題序號后不加逗號,標(biāo)題末尾不加句號。
5、注意引用近兩年國內(nèi)外的最新文獻。本刊采用順序編碼制標(biāo)注參考文獻,文獻序號按出現(xiàn)先后排序,并在文中相應(yīng)處標(biāo)出。
立即指數(shù):立即指數(shù) (Immediacy Index)是指用某一年中發(fā)表的文章在當(dāng)年被引用次數(shù)除以同年發(fā)表文章的總數(shù)得到的指數(shù);該指數(shù)用來評價哪些科技期刊發(fā)表了大量熱點文章,進而能夠衡量該期刊中發(fā)表的研究成果是否緊跟研究前沿的步伐。
引證文獻:又稱來源文獻,是指引用了某篇文章的文獻,是對本文研究工作的繼續(xù)、應(yīng)用、發(fā)展或評價。這種引用關(guān)系表明了研究的去向,經(jīng)過驗證,引證文獻數(shù)等于該文獻的被引次數(shù)。引證文獻是學(xué)術(shù)論著撰寫中不可或缺的組成部分,也是衡量學(xué)術(shù)著述影響大小的重要因素。
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