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Japanese Journal Of Applied Physics

Japanese Journal Of Applied Physics SCIE

日本應(yīng)用物理學(xué)雜志雜志

中科院分區(qū):4區(qū) JCR分區(qū):Q3 預(yù)計(jì)審稿周期: 約2.0個(gè)月

《Japanese Journal Of Applied Physics》是一本由Japan Society of Applied Physics出版商出版的物理與天體物理國(guó)際刊物,國(guó)際簡(jiǎn)稱為JPN J APPL PHYS,中文名稱日本應(yīng)用物理學(xué)雜志。該刊創(chuàng)刊于1962年,出版周期為Monthly。 《Japanese Journal Of Applied Physics》2023年影響因子為1.5,被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE。

ISSN:0021-4922
研究方向:物理-物理:應(yīng)用
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1347-4065
出版地區(qū):JAPAN
Gold OA文章占比:9.51%
語(yǔ)言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:0.0835...
出版商:Japan Society of Applied Physics
出版周期:Monthly
影響因子:1.5
創(chuàng)刊時(shí)間:1962
年發(fā)文量:839
雜志簡(jiǎn)介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Japanese Journal Of Applied Physics 雜志簡(jiǎn)介

《Japanese Journal Of Applied Physics》重點(diǎn)專注發(fā)布物理-物理:應(yīng)用領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在物理-物理:應(yīng)用領(lǐng)域,有較高影響力,對(duì)來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Japanese Journal Of Applied Physics 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
影響因子趨勢(shì)圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo),不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Japanese Journal Of Applied Physics 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(kù)(2023-2024年最新版)
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 134 / 179

25.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 140 / 179

22.07%

Japanese Journal Of Applied Physics CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:3
  • SJR:0.307
  • SNIP:0.631

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:General Engineering Q2 119 / 307

61%

大類:Engineering 小類:General Physics and Astronomy Q2 108 / 243

55%

CiteScore趨勢(shì)圖
年發(fā)文量趨勢(shì)圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Japanese Journal Of Applied Physics 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • Germanium CMOS potential from material and process perspectives: Be more positive about germanium26
  • Thermal phonon engineering by tailored nanostructures24
  • 5.0 kV breakdown-voltage vertical GaN p-n junction diodes21
  • Light based underwater wireless communications19
  • Wideband acoustic wave resonators composed of hetero acoustic layer structure17
  • The new nitrides: layered, ferroelectric, magnetic, metallic and superconducting nitrides to boost the GaN photonics and electronics eco-system16
  • Evaluation of memory capacity of spin torque oscillator for recurrent neural networks14
  • Scintillation properties of RE2Hf2O7 (RE = La, Gd, Lu) single crystals prepared by xenon arc floating zone furnace13
  • Reservoir computing with dipole-coupled nanomagnets13
  • Impact of intermediate high temperature annealing on the properties of AlN/sapphire templates grown by metalorganic vapor phase epitaxy13

Japanese Journal Of Applied Physics 雜志社通訊方式

《Japanese Journal Of Applied Physics》雜志通訊方式為:JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073。詳細(xì)征稿細(xì)則請(qǐng)查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請(qǐng)咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073。

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