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Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

真空科學與技術學報雜志

中科院分區(qū):3區(qū) JCR分區(qū):Q3 預計審稿周期: 一般,3-6周

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》是一本由AVS Science and Technology Society出版商出版的材料科學國際刊物,國際簡稱為J VAC SCI TECHNOL A,中文名稱真空科學與技術學報。該刊創(chuàng)刊于1983年,出版周期為Bimonthly。 《Journal Of Vacuum Science & Technology A》2023年影響因子為2.4,被收錄于國際知名權威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:0734-2101
研究方向:材料科學:膜-工程技術
是否預警:否
E-ISSN:1520-8559
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:27.03%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:0.2168...
出版商:AVS Science and Technology Society
出版周期:Bimonthly
影響因子:2.4
創(chuàng)刊時間:1983
年發(fā)文量:333
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計 通訊方式 相關雜志 期刊導航

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志簡介

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》重點專注發(fā)布材料科學:膜-工程技術領域的新研究,旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在材料科學:膜-工程技術領域,有較高影響力,對來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領域研究者投稿該雜志。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學 2區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學 3區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學 2區(qū) MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 2區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
Created with Highcharts 4.2.6大類分區(qū)中科院SCI分區(qū)2012年2013年2014年2015年2016年2017年2018年2019年2020年2021年2022年00.511.522.533.5
影響因子趨勢圖
Created with Highcharts 4.2.6IF值(影響因子)IF值(影響因子)2015年2016年2017年2018年2019年2020年2021年2022年2023年01234

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果,是衡量學術期刊影響力的一個重要指標,一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認為是該學科領域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

Journal Of Vacuum Science & Technology A CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:5.1
  • SJR:0.569
  • SNIP:0.957

CiteScore 排名

學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%

CiteScore趨勢圖
Created with Highcharts 4.2.6CiteScoreCiteScore2011年2012年2013年2014年2015年2016年2017年2018年2019年2020年2021年2022年2023年0123456
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學術期刊質(zhì)量的指標,該指標是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標,給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志發(fā)文統(tǒng)計

文章名稱引用次數(shù)

  • Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects72
  • Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition26
  • Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements23
  • Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition19
  • Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition16
  • Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film14
  • Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development14
  • Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook13
  • Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices12
  • Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry11

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • USA368
  • Japan77
  • GERMANY (FED REP GER)61
  • South Korea56
  • France44
  • Sweden33
  • CHINA MAINLAND31
  • England29
  • Finland26
  • Netherlands26

Journal Of Vacuum Science & Technology A 雜志社通訊方式

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志通訊方式為:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。詳細征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導服務,SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學術規(guī)范,詳情請咨詢客服。

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