International Journal Of Rf Technologies-research And Applications SCIE

國際射頻技術研究與應用雜志雜志

JCR分區(qū)：Q3 預計審稿周期：

《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》是一本由IOS Press出版商出版的國際刊物，國際簡稱為INT J RF TECHNOL-RES，中文名稱國際射頻技術研究與應用雜志。出版周期為。《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》2023年影響因子為1.6，被收錄于國際知名權威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN：1754-5730

研究方向：COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS

是否預警：否

E-ISSN：1754-5749

Gold OA文章占比：0.00%

語言：English

是否OA：未開放

出版商：IOS Press

影響因子：1.6

年發(fā)文量：8

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雜志簡介 JCR分區(qū) CiteScore

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications 雜志簡介

《International Journal Of Rf Technologies-research And Applications》重點專注發(fā)布COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS領域的新研究，旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發(fā)表他們的高質量實驗研究和理論結果。

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學科：COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS	ESCI	Q3	168 / 249	32.7%

按JCI指標學科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學科：COMPUTER SCIENCE, INFORMATION SYSTEMS	ESCI	Q4	246 / 251	2.19%

International Journal Of Rf Technologies-research And Applications CiteScore 評價數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore：1.1
SJR：0.143
SNIP：0.084

CiteScore 排名

學科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Engineering 小類：Industrial and Manufacturing Engineering	Q3	275 / 384	28%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q4	631 / 797	20%
大類：Engineering 小類：Management of Technology and Innovation	Q4	239 / 289	17%
大類：Engineering 小類：Management Information Systems	Q4	112 / 131	14%

CiteScore趨勢圖

年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore：是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學術期刊質量的指標，該指標是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現(xiàn)期刊質量的重要指標，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

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