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Journal Of Laser Micro Nanoengineering

Journal Of Laser Micro Nanoengineering SCIE

激光微納米工程學(xué)報雜志

中科院分區(qū):4區(qū) JCR分區(qū):Q4 預(yù)計(jì)審稿周期: 較慢,6-12周

《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》是一本由Japan Laser Processing出版商出版的材料科學(xué)國際刊物,國際簡稱為J LASER MICRO NANOEN,中文名稱激光微納米工程學(xué)報。該刊創(chuàng)刊于2006年,出版周期為Tri-annual。 《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》2023年影響因子為0.8,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:1880-0688
研究方向:工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1880-0688
出版地區(qū):JAPAN
Gold OA文章占比:100.00%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:0
出版商:Japan Laser Processing
出版周期:Tri-annual
影響因子:0.8
創(chuàng)刊時間:2006
年發(fā)文量:32
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志簡介

《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》重點(diǎn)專注發(fā)布工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合領(lǐng)域,有較高影響力,對來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 389 / 438

11.3%

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 131 / 140

6.8%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 104 / 119

13%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 165 / 179

8.1%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 379 / 438

13.58%

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 125 / 140

11.07%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 110 / 120

8.75%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 160 / 179

10.89%

Journal Of Laser Micro Nanoengineering CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:1.9
  • SJR:0.198
  • SNIP:0.402

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Industrial and Manufacturing Engineering Q3 223 / 384

42%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q3 516 / 797

35%

大類:Engineering 小類:Instrumentation Q4 111 / 141

21%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • Utilizing Fundamental Beam-Mode Shaping Technique for Top-Hat Laser Intensities in Direct Laser Interference Patterning6
  • High Power Laser Processing with Ultrafast and Multi-Parallel Beams6
  • High-Efficiency Nanostructuring using Multi-Beam Interference by Consecutively Deposited Ultrashort Laser Pulses on Tool Steel5
  • Multi Pulse Pump-Probe Diagnostics for Development of Advanced Transparent Materials Processing5
  • Biomimetic Anti-adhesive Surface Micro-structures of Electrosurgical Knife Fabricated by Fibre Laser5
  • Ablation Characteristics of Alumina and Zirconia Ceramics on Ultra-short Pulsed Laser Machining5
  • Positive Effect of Laser Structured Surfaces on Tribological Performance4
  • In-Situ Analysis of Ultrashort Pulsed Laser Ablation with Pulse Bursts4
  • Homogeneous Low Spatial Frequency LIPSS on Dielectric Materials Generated by Beam-Shaped Femtosecond Pulsed Laser Irradiation4
  • Laser-Induced Periodic Surface Structures (LIPSS) on Polymers Processed with Picosecond Laser Pulses4

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • GERMANY (FED REP GER)58
  • Japan21
  • CHINA MAINLAND16
  • Lithuania7
  • Russia6
  • England5
  • USA5
  • India4
  • Netherlands4
  • Taiwan4

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • FRAUNHOFER GESELLSCHAFT30
  • RWTH AACHEN UNIVERSITY13
  • TECHNISCHE UNIVERSITAT DRESDEN10
  • RUHR UNIVERSITY BOCHUM7
  • UNIV APPL SCI ASCHAFFENBURG7
  • CENTER FOR PHYSICAL SCIENCES & TECHNOLOGY - LITHUANIA6
  • BOSCH4
  • ITMO UNIVERSITY4
  • OSAKA UNIVERSITY4
  • UNIVERSITY OF TWENTE4

Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志社通訊方式

《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》雜志通訊方式為:JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。詳細(xì)征稿細(xì)則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。

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