JCR分區(qū):Q4 預(yù)計(jì)審稿周期:
《International Journal Of Applied Pattern Recognition》是一本國際刊物,國際簡稱為INT J APPL PATTERN R,中文名稱國際應(yīng)用模式識(shí)別雜志。出版周期為。 《International Journal Of Applied Pattern Recognition》2023年影響因子為1.1,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。
《International Journal Of Applied Pattern Recognition》重點(diǎn)專注發(fā)布COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE | ESCI | Q4 | 167 / 197 |
15.5% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE | ESCI | Q4 | 179 / 198 |
9.85% |
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