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微細加工技術

微細加工技術雜志

Microfabrication Technology

雜志簡介:《微細加工技術》雜志經(jīng)新聞出版總署批準,自1983年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為43-1140/TN,是一本綜合性較強的電子期刊。該刊是一份雙月刊,致力于發(fā)表電子領域的高質(zhì)量原創(chuàng)研究成果、綜述及快報。主要欄目:綜述、電子束技術、離子束技術、光子束技術、薄膜技術、微機械加工技術、納米技術

主管單位:信息產(chǎn)業(yè)部
主辦單位:中國電子科技集團公司第48研究所
國際刊號:1003-8213
國內(nèi)刊號:43-1140/TN
創(chuàng)刊時間:1983
所屬類別:電子類
發(fā)行周期:雙月刊
發(fā)行地區(qū):湖南
出版語言:中文
預計審稿時間:3-6個月
復合影響因子:0.19
總被引量:758
H指數(shù):14
期刊他引率:1
雜志簡介 收錄信息 雜志榮譽 歷史收錄 雜志特色 雜志評價 課題分析 發(fā)文刊例 雜志問答

微細加工技術雜志簡介

《微細加工技術》自1983年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為43-1140/TN,本刊積極探索、勇于創(chuàng)新,欄目設置及內(nèi)容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。

《微細加工技術》雜志學者發(fā)表主要的研究主題主要有以下內(nèi)容:

(一)微機電系統(tǒng);MEMS;微機械;形狀記憶合金;微驅動器

(二)微機電系統(tǒng);MEMS;微機械;微機電系統(tǒng)技術;電磁驅動

(三)微機電系統(tǒng);MEMS;微機電系統(tǒng)技術;雙穩(wěn)態(tài);微加工

(四)電極;MEMS;微機電系統(tǒng);壓電;微針

(五)電子束;電子束光刻;微機電系統(tǒng);抗蝕劑;聚合酶鏈式反應

(六)電子束曝光機;聚焦離子束;液態(tài)金屬離子源;電子束曝光;圖形發(fā)生器

(七)光刻;相移掩模;光刻系統(tǒng);干涉光刻;光刻技術

(八)光刻分辨力;投影光刻物鏡;原子束;光刻;光子晶體

(九)碳納米管;形狀記憶合金;微驅動器;納米;圖形化

(十)電子束光刻;電子束曝光;電子束直寫;抗蝕劑;電子束

微細加工技術收錄信息

微細加工技術雜志榮譽

微細加工技術歷史收錄

  • Scopus數(shù)據(jù)庫(2021)

微細加工技術雜志特色

1、本刊恕不退稿。凡投稿三個月內(nèi)未接到任何采用通知者可改投他刊。

2、正文的層次標題應簡短明了,以15字為限,不用標點符號,其層次的劃分及編號一律使用阿拉伯數(shù)字分級編號法。

3、著錄的參考文獻應準確無誤,其內(nèi)容及順序是:專著——序號、著(譯)者、書名、卷次、出版社、出版年;期刊一一序號、作者、篇名、刊名、年份、卷期;報紙——序號、作者、篇名、報紙名、年月日、版頁。

4、關鍵詞一般3~8個,要規(guī)范,必須是名詞或名詞性詞組,所有關鍵詞要便于檢索和索引。

5、文末一定要標明作者單位及聯(lián)系地址、郵編、電話、傳真、電子郵箱、QQ等,方便雜志出刊后寄送。

微細加工技術雜志評價

主要引證文獻期刊分析

引證文獻:又稱來源文獻,是指引用了某篇文章的文獻,是對本文研究工作的繼續(xù)、應用、發(fā)展或評價。這種引用關系表明了研究的去向,經(jīng)過驗證,引證文獻數(shù)等于該文獻的被引次數(shù)。引證文獻是學術論著撰寫中不可或缺的組成部分,也是衡量學術著述影響大小的重要因素。

微細加工技術課題分析

主要資助項目
  • 國家自然科學基金
  • 國家高技術研究發(fā)展計劃
  • 國家重點基礎研究發(fā)展計劃
  • 國家教育部博士點基金
  • 國家重點實驗室開放基金
  • 山東省自然科學基金
  • 中國科學院知識創(chuàng)新工程
  • 中國博士后科學基金
  • 上海市自然科學基金
  • 中國科學院知識創(chuàng)新工程重要方向項目
主要資助課題
  • 國家自然科學基金(90307003)
  • 山東省自然科學基金(Y2003G03)
  • 國家重點基礎研究發(fā)展計劃(2003CB716204)
  • 國家自然科學基金(59671051)
  • 山東省科技攻關計劃(022090105)
  • 國家高技術研究發(fā)展計劃(2004AA404260)
  • 國家高技術研究發(fā)展計劃(2003AA404150)
  • 國家自然科學基金(10572078)
  • 國家自然科學基金(50275140)
  • 國家高技術研究發(fā)展計劃(2003AA404140)

微細加工技術發(fā)文刊例

  • 1、SU-8膠模去除技術作者:崔峰; 靖向萌; 趙小林; 丁桂甫; 張衛(wèi)平; 陳文元
  • 2、液態(tài)金屬鎵離子源的制備作者:馬向國; 劉同娟; 顧文琪
  • 3、基于光刻膠熱熔法的全息光柵表面粗糙度平滑處理作者:李文昊; 巴音賀希格; 齊向東
  • 4、高精度長線列密排光纖陣列的制作研究作者:侯鳳杰; 梁靜秋; 郭鵬; 孔慶峰; 李佳
  • 5、衍射光學元件制作中的基片涂膠方法作者:邱克強; 徐向東; 洪義麟; 劉穎; 付紹軍
  • 6、金納米粒子作掩模的硅納米柱陣列的加工作者:趙保軍; 王英; 張亞非
  • 7、等離子體刻蝕處理大面積金剛石薄膜作者:茍立; 鄭元元; 冉均國
  • 8、兩種離子束方法制備Cr膜的分析研究作者:王治安; 代海洋; 黃寧康
  • 9、SF6/O2等離子體刻蝕a-C:F薄膜的研究作者:吳振宇; 楊銀堂; 汪家友; 柴常春
  • 10、一種微電解池式微流量傳感器的研制作者:張小娟; 吳一輝; 賈宏光; 張平; 王淑榮; 宣明

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