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Ieee Transactions On Industry Applications

Ieee Transactions On Industry Applications SCIE

IEEE Transactions on Industry Application雜志

中科院分區(qū):2區(qū) JCR分區(qū):Q1 預(yù)計審稿周期: 一般,3-6周

《Ieee Transactions On Industry Applications》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)國際刊物,國際簡稱為IEEE T IND APPL,中文名稱IEEE Transactions on Industry Application。該刊創(chuàng)刊于1965年,出版周期為Bimonthly。 《Ieee Transactions On Industry Applications》2023年影響因子為4.2,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:0093-9994
研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1939-9367
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:4.24%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:0
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:Bimonthly
影響因子:4.2
創(chuàng)刊時間:1965
年發(fā)文量:690
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Ieee Transactions On Industry Applications 雜志簡介

《Ieee Transactions On Industry Applications》重點專注發(fā)布工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。根據(jù)網(wǎng)友分享的投稿經(jīng)驗,平均審稿速度為 一般,3-6周 。該雜志創(chuàng)刊至今,在工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域,影響力非凡,對來稿文章質(zhì)量要求很高,稿件投稿過審難度很大,刊登文章的學(xué)術(shù)水平和編輯質(zhì)量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文,你可以向編輯部提交文章,但文章必須具有重要意義并代表該領(lǐng)域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領(lǐng)域的研究者提交投稿。

Ieee Transactions On Industry Applications 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 2區(qū) 2區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY 工程:綜合 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Ieee Transactions On Industry Applications 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 89 / 352

74.9%

學(xué)科:ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q1 24 / 179

86.9%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 56 / 354

84.32%

學(xué)科:ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q1 25 / 180

86.39%

Ieee Transactions On Industry Applications CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:9.9
  • SJR:1.785
  • SNIP:1.658

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Control and Systems Engineering Q1 34 / 321

89%

大類:Engineering 小類:Industrial and Manufacturing Engineering Q1 45 / 384

88%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 95 / 797

88%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Ieee Transactions On Industry Applications 雜志發(fā)文統(tǒng)計

文章名稱引用次數(shù)

  • Multiobjective Optimization Model of Source-Load-Storage Synergetic Dispatch for a Building Energy Management System Based on TOU Price Demand Response34
  • Dynamic Power Management and Control of a PV PEM Fuel-Cell-Based Standalone ac/dc Microgrid Using Hybrid Energy Storage27
  • Pattern Classification and PSO Optimal Weights Based Sky Images Cloud Motion Speed Calculation Method for Solar PV Power Forecasting24
  • Design and Performance Analysis of Three-Phase Solar PV Integrated UPQC24
  • An Overview and Comparison of Online Implementable SOC Estimation Methods for Lithium-Ion Battery22
  • Harmonics and Mitigation Techniques Through Advanced Control in Grid-Connected Renewable Energy Sources: A Review22
  • Inductive Power Transfer for Automotive Applications: State-of-the-Art and Future Trends21
  • A Review of Communication Failure Impacts on Adaptive Microgrid Protection Schemes and the Use of Energy Storage as a Contingency21
  • Technical Viability of Battery Second Life: A Study From the Ageing Perspective18
  • Modeling, Design Optimization, and Applications of Switched Reluctance Machines-A Review18

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • USA561
  • CHINA MAINLAND326
  • India300
  • Italy161
  • Canada137
  • England123
  • Japan95
  • Brazil90
  • France83
  • Australia78

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM)198
  • NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY (NIT SYSTEM)62
  • AALBORG UNIVERSITY57
  • UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA55
  • UNIVERSITY OF WISCONSIN SYSTEM53
  • UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM45
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)42
  • HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY42
  • POLYTECHNIC UNIVERSITY OF TURIN42
  • UNIVERSITY OF OVIEDO42

Ieee Transactions On Industry Applications 雜志社通訊方式

《Ieee Transactions On Industry Applications》雜志通訊方式為:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。詳細(xì)征稿細(xì)則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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